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对于蒸发镀膜:一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:
基片材料与靶材的晶格匹配程度，基片表面温度，蒸发功率，速率，真空度，镀膜时间，厚度大小。
组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，电子束蒸发型号，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
真空镀膜机在现在对产品的表面处理上具有的优势还是比较明显的，眉山电子束蒸发，这种镀膜机械比起其他的表面处理设备来说，在加工方面，电子束蒸发价格，本身是需要在真空的环境中进行的，这样的镀膜方式就把外界的一些影响因素给“屏蔽”了，这是这种真空镀膜机的一个优势之处。
而对于真空镀膜机械来说，目前的电路的发展也十分迅速，很多电子化的产品也被运用到电路当中，也使得这些机械逐渐发展成为了电动化、自动化的设备。
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