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真空镀膜技术
薄膜均匀性概念
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真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，磁控溅射设备，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，磁控溅射制造，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。
薄膜均匀性概念
真空镀膜机厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100a)，真空镀膜的均匀性已经相当好，磁控溅射，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10a甚至1a的表面平整。
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