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真空热处理炉是近年来得到较大发展的热处理设备，工件是在气压的空间里进行加热和冷却的。它具有质量好、节能、安全和污染少等优点。
真空炉的发热体用低压电，但电源电压仍为380v，操作时仍需要安全用电。
真空炉制造时，超高真空电子束蒸发，应确保不漏气、不漏水。真空炉炉体和炉盖等的密封是用橡胶件，因此需要用水隔层进行冷却。若水漏到炉膛里时，真空储存，炉膛温度很高，潜江真空，会引起炸裂。真所以真空炉装料后应关闭炉门，真空薄膜，将炉膛抽成真空后，方可通电加热。
对于蒸发镀膜:一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:
基片材料与靶材的晶格匹配程度，基片表面温度，蒸发功率，速率，真空度，镀膜时间，厚度大小。
组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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