薄膜均匀性概念：厚度上的均匀性，真空材料处理，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，真空镀膜，约为100a)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，邢台真空，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10a甚至1a的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

沈阳诺思真空技术有限公司（原沈阳天成真空技术有限责任公司）成立于2012年，是以超高真空技术为基础、从事各种真空应用设备研发、生产和销售为一体的技术型企业。

真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别：蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，微光夜视真空系统，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。溅射镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。真空镀膜机设备溅射镀膜又分为很多种，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

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