气体及控制系统。
气是进行磁控溅射时应用广泛的气体。在溅射时，气的多少直接关系到溅射速率以及溅射的均匀性等，因此需要严格控制气体的进气量，一般用质量流量计来实现控制。
溅射功率的增加会提高膜厚的均匀性、溅射速率，随着溅射功率的增加，等离子体的面积增大，因此膜层的均匀性会提高。功率的增大，能提高气的电离度，真空，增大溅射出的靶材原子数量，从而提高了溅射速率。
真空设备无论大小都属于精密机械设备，这点很重要。拆卸应遵循轻拿轻放的原则，不能蛮干，一定不能用大锤去敲。清洗零件时要干净，，以便于发现问题和查出隐患。真空泵类产品与一般机械产品有较大区别，超高真空，一般机械产品多倒楞倒角，而真空泵的楞角分明，极高真空，很易伤手应多加小心，切记。千万别把楞角倒去。检验是个细致活，每个细节都不要落掉，任何细微的地方都可能是问题所在，所以不能存在侥幸心理。
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